[Todos] LUNES 19 de diciembre - 13 hs - .Seminarios DQIAQF - INQUIMAE

[Graciela A. González]

Seminarios DQIAQF - INQUIMAE,  lunes 19 de diciembre - 13 hs.

Aula de Seminarios INQUIMAE - DQIAQF
Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
Ciudad Universitaria - Pab. 2  -  Piso 3

Materiales para la fabricacion de circuitos integrados de futura generacion

Dr. Dario L. Goldfarb

IBM T.J. Watson Research Center, USA


Resumen

            La evolución tecnológica de los circuitos integrados durante
las cuatro décadas pasadas ha sido largamente facilitada por
el incremento en la resolución espacial de los polímeros
fotosensibles utilizados para definir definir nanoestructuras
funcionales para cada nivel dentro de cada "chip". Al mismo
tiempo, la resolución de los instrumentos ópticos empleados
para irradiar dichos fotopolímeros ha acompañado dicha
evolución, utilizando radiación ultravioleta de longitud de
onda cada vez más pequeña (365nm, 248nm, 193nm) y componentes
ópticos cada vez más complejos al punto de transformarse en
maravillas de precisión, rapidez y sofisticación. Aun asi, la
fuerza impulsora ($) que lleva a reducir el tamano de los
elementos (semi)conductores y aislantes ha empujado dicha
técnica, conocida como litografía óptica, hasta su límite de
aplicabilidad práctica. Es así que la continuidad en el avance
de la tecnología de semiconductores depende en gran medida de
la introducción de nuevos instrumentos y materiales
fotosensibles diseñados para operar con longitudes de onda
cercanas a los rayos-X.
            En esta charla se presentarán los lineamientos generales de la
fabricación de circuitos semiconductores desde un punto de
vista litográfico, su evolución histórica y las limitaciones
actuales en relación a los materiales utilizados para dicho
fin. En particular, se describirán las propiedades de
transporte (difusión) de fotocatalizadores y su efecto en la
resolución espacial de nanoestructuras, la interacción de
estas especies con radiación ionizante (fotones, electrones) y
el diseño práctico de nuevos materiales fotosensibles
utilizando técnicas electroquímicas y de simulación
computacional. Finalmente, para el caso de nanoestructuras
poliméricas tridimensionales de alta densidad espacial
fabricadas con dichos lineamientos es necesario considerar la
inestabilidad mecánica impartida por el efecto capilar
presente durante el proceso de revelado. La descripción
cuantitativa de dicho efecto permite implementar distintas
técnicas de secado (surfactantes, fluidos supercríticos) que
eliminan la deformación de las nanoestructuras así fabricadas.