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<p class="MsoNormal" style="font-family:arial,sans-serif;font-size:12.727272033691406px;text-align:justify;text-indent:35.4pt"><span style="text-align:start;text-indent:0px">A los futuros estudiantes de Laboratorio 6 y 7, Tesis de Licenciatura y/o Doctorado:</span><br style="text-align:start;text-indent:0px">
<br style="text-align:start;text-indent:0px">
<span style="text-align:start;text-indent:0px"> En el Laboratorio de Procesado de Imágenes se van a desarrollar líneas de investigación en el área de litografía óptica. En colaboración con el Dr. Rajesh Menon de la Universidad de Utah, se explorarán materiales compuestos que permitan imprimir estructuras con resolución por debajo del límite de difracción. Estos experimentos serán realizados por primera vez en la Facultad de ciencias Exactas y los invitamos a participar en ellos! Si desean información, no duden en contactarnos.</span><br style="text-align:start;text-indent:0px">
<span style="text-align:start;text-indent:0px"> </span><br style="text-align:start;text-indent:0px">
<span style="text-align:start;text-indent:0px">Saludos cordiales,</span><br style="text-align:start;text-indent:0px">
<br style="text-align:start;text-indent:0px">
<span style="text-align:start;text-indent:0px">M.G. Capeluto, S. Ledesma, C. Iemmi</span><br style="text-align:start;text-indent:0px">
<br style="text-align:start;text-indent:0px">
<a href="mailto:maga@df.uba.ar" style="text-align:start;text-indent:0px" target="_blank">maga@df.uba.ar</a><span style="text-align:start;text-indent:0px"> </span><a href="mailto:ledesma@df.uba.ar" style="text-align:start;text-indent:0px" target="_blank">ledesma@df.uba.ar</a><span style="text-align:start;text-indent:0px"> </span><a href="mailto:iemmi@df.uba.ar" style="text-align:start;text-indent:0px" target="_blank">iemmi@df.uba.ar</a><br style="text-align:start;text-indent:0px">
<br style="text-align:start;text-indent:0px">
<b><span style="text-align:start;text-indent:0px"> </span><span style="text-align:start;text-indent:0px">Litografía óptica: imprimiendo estructuras por debajo del límite de difracción</span></b></p>
<p class="MsoNormal" style="font-family:arial,sans-serif;font-size:12.727272033691406px;text-align:justify;text-indent:35.4pt"> </p>
<p class="MsoNormal" style="font-family:arial,sans-serif;font-size:12.727272033691406px;text-align:justify;text-indent:35.4pt"><span style="font-family:Arial"><i>La nanotecnología abarca a las ramas de la ciencia y de la técnica en donde se desarrollan procesos cuyas distancias características están en la escala nanométrica (esto es, entre 1 y 100 nanómetros). Esta área involucra el estudio, diseño, síntesis y manipulación de materiales, dispositivos y sistemas funcionales a través del control de la materia a nivel atómico y molecular. El gran progreso que se ha logrado en esta área está basado en la capacidad de medir, manipular y organizar materia en esta escala. </i></span></p>
<p class="MsoNormal" style="font-family:arial,sans-serif;font-size:12.727272033691406px;text-align:justify;text-indent:35.4pt"><span style="font-size:10pt"><i>Desde el punto de vista de la miniaturización, durante muchos años la industria semiconductora ha hecho enormes esfuerzos por disminuir el tamaño de los dispositivos. La técnica de litografía que hoy en día se utiliza para la impresión de circuitos con producción masiva es la litografía óptica (utilizando diferentes aproximaciones como proyección, inmersión, etc) en la que se emplean fuentes de iluminación cuya longitud de onda es de 13.5nm para activar a una fotoresina. Sin embargo, estas técnicas son muy costosas y difíciles de implementar por la complejidad de las fuentes y los sistemas ópticos. Es por esto que hay un gran número de trabajos científicos en los que se buscan diseños alternativos y económicos para imprimir detalles en los nanométros, y que permitan crear sistemas novedosos en una escala de producción acorde con un laboratorio de investigación.</i></span></p>
<p class="MsoNormal" style="font-family:arial,sans-serif;font-size:12.727272033691406px;text-align:justify;text-indent:35.4pt"><span style="font-size:10pt"><i>En el LPI desarrollaremos un instrumento para realizar litografía óptica que será útil para implementar nuevas líneas de investigación. Por otra parte, en colaboración con el Dr. Rajesh Menon de la Universidad de Utah, se utilizará este sistema para realizar litografía por transporte de masa y estudiar otras posibilidades alternativas que permitan obtener resolución por debajo del micrón. </i></span></p>
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